Rozmiar Kontrast
  • data: 20.12.2021, godz. 18:00
  • miejsce: Ambasada Dizajnu (ul. Wesoła 38)
  • wstęp: bezpłatny

Zapraszamy do Ambasady Dizajnu (ul. Wesoła 38) na pierwszą wystawę z cyklu ”Wystaw się”. Projekt ten zaczynamy od prezentacji magisterskiej pracy dyplomowej Agnieszki Łońskiej, która powstała pod okiem dr Ewy Bujak na Wydziale Sztuki UJK w Kielcach.

Prezentowana na wystawie kolekcja odzieży jest wizualnym komentarzem projektantki do rozważań teoretycznych na temat genezy mody streetwearowej w Chinach i jej związków z kulturą Zachodu. Agnieszka przez półtora roku studiowała w Szanghaju i Tianjin, co znacząco wpłynęło na efekt finalny zaprojektowanych przez nią ubrań. Inspiracje do autorskich ilustracji pochodzą również z chińskich social mediów m.in. z Xiaohongshu. Najważniejszym medium dla przedstawienia printów stały się nadruki odzieżowe oraz hafty komputerowe.

Wystaw się to przegląd projektów dyplomowych organizowany przez Instytut Dizajnu w Kielcach, skierowany do absolwentów studiów projektowych.

Wystawa potrwa do 28.01.2022 roku. Można ją zwiedzać od wtorku do piątku w godz. 10:00-17:00 w Ambasadzie Dizajnu.

Pamiętajcie o środkach ochrony! W Instytucie Dizajnu obowiązuje noszenie maseczek ochronnych i dezynfekcja rąk.